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单纯为评价、分析而复制受保护的布图设计的,是否要得到许可?

我们公司创作完成某集成电路布图设计,并已成功向国家知识产全局登记,后B公司单纯为评价、分析目的而复制受保护的集成电路布图设计。请问:单纯为评价、分析而复制受保护的布图设计的是否要得到许可?
用户

您好,单纯为了评价、分析而复制受保护的布图设计,是不构成侵权的。虽然B公司未经贵公司许可,擅自复制贵公司的布图设计,但其仅是利用于研究、分析,并不构成对贵司的侵权,因此,贵司无法向其主张侵权责任。

律师 52号律师

您好,这是不用的。因为B公司单纯为评价、分析目的而复制受保护的集成电路布图设计并没有对您构成侵权。因此,并不需要得到您的许可。如果您还有更多相关的需要,您可以当面咨询律师:http://www.lihuaya.cn/zhaolvshi 

律师 28号律师

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